Energie / Les limites du photovoltaïque repoussées grâce aux couches minces appliquées à froid

La nouvelle technologie de dépôt par plasma pulsé (PPD), mise au point dans le cadre du projet Plasia par l'Université de Catane en collaboration avec des partenaires privés de la vallée de l'Etna, permet de réaliser des surfaces semi-conductrices minces de silicium amorphe à basse température (80 °C, au lieu de 400°C avec les technologies laser), ce qui permet de les déposer sur des matériaux plastiques souples sans qu’ils fondent et ainsi de produire des surfaces photovoltaïques en rouleaux. Les principaux avantages de cette technologie sont de permettre d’éviter le recours aux plaques de silicium traditionnelles, beaucoup plus coûteuses, plus lourdes, et dont la production est très énergivore. Le coût de fabrication devient ainsi beaucoup moins important. Il devient également possible de multiplier les applications puisque tout type de support peut être recouvert, quelle que soit sa forme. Seul inconvénient : un rendement plus faible qui nécessite des surfaces plus importantes pour une production électrique identique.
Le projet «Plasia" a nécessité un investissement de 1,9 millions d'euros, dont un tiers financés par le Programme opérationnel régional de la Sicile 2000-2006. Selon ses promoteurs, une production de masse et une arrivée sur le marché est prévue pour 2012.